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光刻系统

  • 无掩膜光刻机 激光直写系统
无掩膜光刻机 激光直写系统

无掩膜光刻机 激光直写系统

  • 产品描述:无掩膜光刻机 激光直写系统

无掩膜光刻机/激光直写系统

MLW-100

市场上使用405纳米激光器的最高分辨率600纳米的结构

405纳米激光源,可用于要求更高的应用

紧凑型光学模块:使用备用光学模块减少革命性的机器停机时间

用户友好操作

独特的研发机会

405nm光学模块将允许系统最小线宽达到600纳米

能力

-市场上使用寿命长的405纳米激光器的最高分辨率。

-最小线宽达到600纳米

-高达4095级的直写灰度

-375纳米激光可用于要求更高的应用(选配:375纳米激光)

-光栅模式和矢量模式可用。

-软件可控制的写入模式选择。

-实时自动聚焦成为可能。

-支持从5mm x 5mm125mm x 125mm的基板

操作

-现代的基于Microsoft Windows的用户界面允许用户友好的操作。

-高度自动化的处理,一键操作。

-远程互联网支持

安装和维护

- MLW-100是一个紧凑的桌面系统,需要最小的清洁空间。

-紧凑型光学模块:使用备用光学模块来减少机器停机时间。

-安装快速方便:除操作PC和真空泵外,所有主要部件

安装在外壳内。

-维护成本最低,无需定期维护。

紧凑型光学模块,具有卓越的稳定性和革命性的短停机时间

完整的光学路径包含在一个小的可更换模块(光学模块)中。通过尽可能短的优化路径,与传统的优化设置相比,点稳定性大大提高。光学模块包含寿命长的405 nm激光和最佳光斑形状的光束整形光学元件。

特征:

-市场上最小的高品质激光束光斑。

-集成的650纳米红色激光控制自动对焦系统自动纠正高度变化。

-综合剂量控制。

-选项:对于要求较低的任务,可以使用全自动NA开关选择较大的光斑尺寸。此开关允许系统使用更大的点以提高速度。

光学特性

激光源405纳米,GaN激光器

寿命>10000小时

写入模式:0.6μm,可选1.2μm2.0μm FWHM

工作距离0.9毫米

最大强度为3 mW,软件可控。

灰度控制4095

自动对焦800 Hz band宽,650nm 红光激光控制

-0.3…x…+0.3 mm高度变化,带自动高度跟踪。

快速的音圈执行器,精确的实时Z校正。

焦距可通过软件控制进行调整。

正面对准

光学模块配备高分辨率摄像机,用于需要多层的应用。相机图像由高级成像软件处理。自动标记识别使用户很容易找到标记。用户可以设定任何形状作为标记。当在相机的视场中找不到标记时,软件支持区域扫描,以便在更大的区域中自动搜索标记。对齐和图像补偿可以基于一个、两个或三个标记。

正面对准指标:

校准照相机单色520万像素。

像素分辨率1μm

最终对准精度 <0.5μm

修正算法通过扫描和步进轴之间的插值运动进行位置、比例(最大5%)、倾斜、旋转(最大+/-5度)旋转修正。

MLW-100配备了用于XY运动的高精度轴和一个用于Z运动的可选轴。扫描轴(Y)包含一个高精度燕尾形空气轴承,该轴承由带纳米分辨率编码器的直线电机驱动。步进轴(X)采用带直线电机和高分辨率光学编码器的精密滚子轴承。该系统允许极低的机械误差和快速扫描运动。可选的电动控制Z轴具有12 mm行程,以支持各种基板厚度。

用真空吸盘夹紧基板。真空吸盘易于更换,以支持不同的基板尺寸。

机械性能

行程和阶梯最大115 mm

重复性<50 nm RMS

分辨率10纳米

扫描速度最大200 mm/s

直线度轴 <1μm,在100 mm范围

样品厚度:0-10 mm手动调整;12 mm,安装可选电动Z轴。

样品衬底厚度变化最大值+/-0.2mm

样品衬底尺寸:5mm x 5mm125mm x 125mm

曝光区域: 100mm x 100mm

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